敞开式直线光栅尺
敞开式直线光栅尺设计用于对测量精度要求*的机床和系统。
典型应用包括：
· 半导体业的测量和生产设备
· PCB电路板组装机
· 超高精度机床
· 高精度机床
· 测量机和比较仪，测量显微镜和其它精密测量设备
· 直驱电机
绝对式编码器
系列
说明
LIC
LIC敞开式直线光栅尺能够对行程达28 m和高速运动进行绝对位置测量。其尺寸和安装方式与LIDA 400相同。
输出位置值的编码器
系列
说明
LIP 200
LIP 211和LIP 291增量式直线光栅尺输出位置值的位置信息。正弦扫描信号在读数头中被高倍频细分且其计数功能将细分的信号转换成位置值。与所有增量式编码器一样，借助参考点确定绝对原点。
增量式编码器
系列
说明
LIP
超高精度
LIP敞开式直线光栅尺拥有极小的测量步距，*的精度和重复精度。扫描方式为干涉扫描，测量基准为DIADUR相位光栅。
LIF
高精度
LIF敞开式直线光栅尺的测量基准是SUPRADUR工艺制造的玻璃基体光栅，采用干涉扫描方法。特点是精度高和重复精度高，安装特别简单，有限位开关和回零轨。特殊型号的LIF 481 V可用于10–7 bar的真空环境中（参见其单独“产品信息"）。
LIDA
高速运动和大测量长度
LIDA敞开式直线光栅尺特别适合运动速度达10 m/s的高速运动应用，支持多种安装方式，安装特别简单。根据相应应用要求，METALLUR光栅的基体可为钢带，玻璃或玻璃陶瓷。也有限位开关。
PP
二维坐标测量
PP二维编码器的测量基准是平面DIADUR工艺制造的相位光栅，采用干涉扫描方法。用于测量平面中位置。
LIP/LIF
高真空和超高真空技术
我们的标准编码器适用于低真空或中等真空应用。高真空或超高真空应用的光栅尺需要满足一些特殊要求。采用的设计和材质必须满足应用要求。更多信息，参见“真空中应用的直线光栅尺"产品信息。
以下敞开式直线光栅尺专用于高真空或超高真空应用环境。
• 高真空：LIP 481 V和LIF 481 V
• 超高真空：LIP 481 U
LIC 4100选型指南
型号
基线误差
基体和安装方式
细分误差
测量长度
精度等级
局部
LIC 4113
LIC 4193
± 3 μm
± 5 μm
≤ ± 0.275 μm/ 10 mm
玻璃或玻璃陶瓷光栅尺，嵌入在安装面中
± 20 nm
240 mm 至3040 mm
LIC 4115
LIC 4195
± 5 μm
≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.)
钢带光栅尺穿入在铝壳中并预紧
± 20 nm
140 mm 至 28440 mm
LIC 4117
LIC 4197
± 3 μm
± 5 μm
± 15 μm
≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.)
钢带光栅尺穿入在铝壳中并固定
± 20 nm
240 mm 至 6040 mm
LIC 4119
LIC 4199
± 3 μm
± 15 μm
≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.)
钢带光栅尺粘贴在安装面上
± 20 nm
70 mm 至 1020 mm
LIC 4119 FS
± 3 μm
± 15 μm
≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.)
钢带光栅尺粘贴在安装面上
± 20 nm
70 mm 至 1820 mm
LIC 2100
型号
基线误差
基体和安装方式
细分误差
测量长度
精度等级
局部
LIC 2117
LIC 2197
± 15 μm
钢带光栅尺穿入在铝壳中并固定
± 2 μm
120 mm 至 3020 mm
LIC 2119
LIC 2199
± 15 μm
钢带光栅尺粘贴在安装面上
± 2 μm
120 mm 至 3020 mm
LIP 系列具有*的精度选型指南
外露式线性编码器由 测量标准 和扫描头组成。请从列表中选择这两个组件。.
模型
精度等级
基板和安装
插值误差
测量长度
唇 300
± 0.5 微米
Zerodur 玻璃陶瓷嵌入螺栓固定的殷钢载体中
± 0.01 纳米
70 毫米至 270 毫米
产品变体
唇 200
± 1 μm
± 3 μm
带固定夹的 Zerodur 玻璃陶瓷刻度
± 1 纳米
20 毫米至 3040 毫米
测量标准
扫描头
LIP 6000
±1 μm (< 1020 mm) ±3 μm
Zerodur 玻璃陶瓷的刻度，通过粘合剂或固定夹
± 4 纳米
20 毫米至 3040 毫米
测量标准
扫描头
高精度 LIF 系列选型指南
外露式线性编码器由测量标准和扫描头组成。请从列表中选择这两个组件。.
刻度带
扫描头
模型
基线误差
基板和安装
插值误差
测量长度
精度等级
间隔
LIF 400
± 1 μm
± 3 μm
≤ ± 0.225 微米/ 5 毫米
Zerodur 玻璃陶瓷或玻璃的刻度，用 PRECIMET 胶膜粘合
± 12 纳米
70 毫米至 1640 毫米
LIDA 400 系列用于高移动速度和大测量长度
外露式线性编码器由测量标准和扫描头组成。请从列表中选择这两个组件。.
刻度带
扫描头
模型
基线误差
基板和安装
插值误差
测量长度
精度等级
间隔
利达 473
利达 483
± 1 μm
± 3 μm
± 5 μm
≤ ± 0.275 微米/ 10 毫米
玻璃或玻璃陶瓷刻度，粘合到安装表面
± 45 纳米
240 毫米至 3040 毫米
利达 475
利达 485
± 5 微米
≤ ± 0.750 μm / 50 mm（典型值）
钢尺带拉入铝挤压件并张紧
± 45 纳米
140 毫米至 30040 毫米
利达 477
利达 487
± 3 μm
± 5 μm
± 15 μm
≤ ± 0.750 μm / 50 mm（典型值）
钢尺带拉入铝挤压件并固定
± 45 纳米
240 毫米至 6040 毫米
LIDA 479
LIDA 489
± 3 微米
± 15 微米
≤ ± 0.750 μm / 50 mm（典型值）
钢带，粘合到安装表面
± 45 纳米
高达 6000 毫米
LIDA 200 系列用于高移动速度和大测量长度
外露式线性编码器由测量标准和扫描头组成。请从列表中选择这两个组件。.
刻度带
扫描头
模型
基线误差
基板和安装
插值误差
测量长度
精度等级
间隔
利达 277
利达 287
± 15 微米
钢尺带拉入铝挤压件并固定
± 2 微米
高达 10000 毫米
利达 279
利达 289
± 15 微米
钢尺带，粘在安装面上
± 2 微米
高达 10000 毫米
二坐标测量用PP系列
模型
精度等级
基板和安装
插值错误
测量长度
聚丙烯 281
± 2 微米
玻璃格板，
全表面贴合
± 12 纳米
测量范围 68x68mm
LIP/LIF 系列适用于高真空和超高真空技术
类型
基线误差
基板和安装
插值误差
测量长度
精度
等级
间隔
唇
481V 唇 481U
± 0.5 微米
± 1 微米
≤ ± 0.175 微米/ 5 毫米
Zerodur 玻璃陶瓷或带固定夹的玻璃刻度
± 7 纳米
70 毫米至 420 毫米
LIF 471V
LIF 481V
± 3 微米
≤ ± 0.225 微米/ 5 毫米
± 12 纳米
70 毫米至 1640 毫米
LIC 4113 V
LIC 4193 V
±1 µm（仅适用于 Robax 玻璃陶瓷）、±3 µm、±5 µm
≤ ±0.275 微米/10 毫米
玻璃陶瓷或玻璃上的 METALLUR 光栅
± 20 纳米
240 毫米至 3040 毫米
